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三星7LPP工艺是其首款使用极紫外（EUV）光刻的半导体工艺技术，与10nm FinFET相比，可大大降低复杂性，并提供更高的良率和更快的周转时间。新思科技定制设计工具已针对三星7LPP相关要求进行更新。此外，三星还将提供面向新思科技的工艺设计套件（PDK）和定制设计参考流程。
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